橢圓偏光儀基本上是利用反射光相對于入射光偏極態(tài)的轉(zhuǎn)變，以反推介質(zhì)的光學特性。

為了測量變化中的材料，如電漿蝕刻薄膜、真空鍍膜過程的沉積速率和厚度、加溫中的晶體以及高分子的感光過程，

 

對橢圓偏光儀測量速度的改進已成為近年來業(yè)界研究的主要目標。

 

簡式到線上即時監(jiān)控的橢圓偏光儀的研究已有十多年。從將補波片換成光彈調(diào)變器，

我們將快速資料擷取卡裝置在系統(tǒng)中。最近所提出的記錄后分析法，已可在20 µs測量一組橢圓偏光參數(shù)。

 

 

本文提出一雷射反射光彩像結(jié)合標準探針式粗糙度量測方法，以已知波長之He-Ne雷射光爲光源，預估其反射影像線寬與粗糙度(R(下標 a))之關系。量測系統(tǒng)建立在材料、入射角、波長及檢測距離等參數(shù)設定下，可獲得一簡單量測執(zhí)行模式。此執(zhí)行模式經(jīng)由多次實驗值顯示均可供生產(chǎn)線上之相同材料粗度檢驗，其R(下標 a)值量測不準確度在0.034μm以內(nèi)。