本文標題："熒光(XRF)分析技術涂層的質(zhì)量檢測儀器"
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熒光(XRF)分析技術涂層的質(zhì)量檢測儀器
在工廠，X射線熒光(XRF)分析元素技術已用于準確地控制涂層
的質(zhì)量，由非實驗室人員進行的XRF測試，就能迅速得到關于涂覆涂
料的量和均一性的信息，有關的分析數(shù)據(jù)很精確。已證明XRF對測
定紙或膜上硅氧烷涂層的質(zhì)量，以及在紙中填充的二氧化鈦的質(zhì)量
和膜上銀的質(zhì)量很有效。
技術
X射線熒光是快捷的、非破壞性的和比較性的技術，能夠定造
測定很多材料中的元素。XRF類型很多
XRF臺頂式分析儀以低能級的放射性同位表作為輻射源，輻射
源與試樣距離很近。輻射源發(fā)出的一次X射線照射到試樣上，產(chǎn)生
二次X射線熒光，二次X射線熒光能夠表征試樣中元素的特定的能量
，這種能量與化學或物理狀態(tài)無關-在一充滿氣體的計數(shù)器中檢測X
射線，得到一系列的脈沖，其振幅與入射的輻照能量成比例。例如
，從硅元素X射線得到的脈沖數(shù)與試樣中硅氧烷涂層的質(zhì)量成正比+
因為這項技術是非破壞性的，所以．可以在任何時間對試樣進行重
復分析。
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